Pat
J-GLOBAL ID:200903008613285888

帯電防止・反射防止膜

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 土橋 皓
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996056159
Publication number (International publication number):1997249410
Application date: Mar. 13, 1996
Publication date: Sep. 22, 1997
Summary:
【要約】【課題】 透明基材表面の塗膜により形成される帯電防止・反射防止膜に関し、透明基材の表面上に、画像解像度を低下させることのない、十分な帯電防止・反射防止効果のある膜を形成できるようにすることを目的とする。【解決手段】 シリコンアルコキシドと、溶媒と、二酸化ケイ素微粉末と、アンチモン含有酸化錫微粉末とを、少なくとも含有してなる分散液により形成された被膜において、該被膜の表面に高さ0.01〜0.1 μmの微細な凹凸面を備えるように構成する。
Claim (excerpt):
シリコンアルコキシドと、溶媒と、二酸化ケイ素微粉末と、アンチモン含有酸化錫微粉末とを、少なくとも含有してなる分散液により形成された被膜において、該被膜の表面に高さ0.01〜0.1 μmの微細な凹凸面を有していることを特徴とする帯電防止・反射防止膜。
IPC (8):
C01B 33/00 ,  B32B 17/06 ,  C09K 3/16 101 ,  G02B 1/11 ,  G02B 1/10 ,  G02F 1/1335 ,  H01J 5/08 ,  H01J 29/88
FI (8):
C01B 33/00 ,  B32B 17/06 ,  C09K 3/16 101 A ,  G02F 1/1335 ,  H01J 5/08 ,  H01J 29/88 ,  G02B 1/10 A ,  G02B 1/10 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開昭64-044742
  • 特開昭64-044742

Return to Previous Page