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J-GLOBAL ID：200903008628429096

薄膜磁気ヘッド及び記録再生分離型ヘッドの製造方法

Inventor： 岡田 智弘 ,  佐野 雅章 ,  布川 功 ,  府山 盛明 ,  小室 又洋
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997301586
Publication number (International publication number)：1999134612
Application date： Nov. 04, 1997
Publication date： May. 21, 1999
Summary：

【要約】【課題】本発明の目的は、ギャップ膜に隣接する磁気コアの部分の磁気的飽和が無く、かつトラック幅精度に優れた薄膜磁気ヘッド及び記録再生分離型ヘッドの製造方法を提供する。【解決手段】本発明は、磁気ギャップに隣接する部分に、予めパターン化したスパッタ膜(磁性膜または多層膜)を形成後、その上にフレームめっき法によって磁性膜パターンを形成し、それをマスクにスパッタ膜をエッチングすることにより磁気コアを形成する薄膜磁気ヘッド及び記録再生分離型ヘッドの製造方法にある。

Claim (excerpt)：

下部磁気コアと、該下部磁気コア上に積層され一端が前記下部磁性膜に連なり他端が前記下部磁気コアに磁気ギャップを介して対向し、前記下部磁気コアと共に磁気回路を形成する上部磁気コアと、前記下部磁気コアと上部磁気コアとの間に設けられた導体コイルと、前記下部磁気コア,上部磁気コア及び導体コイルを互いに電気的に絶縁する絶縁膜とを具備する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、前記下部磁気コアとなる磁性膜をスパッタリングにより所望のパターンに形成する工程1と、前記磁性膜上に前記磁気ギャップとなる非磁性膜を形成する工程と、該非磁性膜上にフレームめっき法により所望のパターンを有する前記上部磁気コアを形成する工程2と、前記上部磁気コアをマスクとして前記磁気ギャップとなる非磁性膜及び下部磁気コアとなる磁性膜をエッチングし所望のパターンを有する前記磁気ギャップ及び下部磁気コアを形成する工程3とを有することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。

IPC (2)：

G11B 5/31 ,  G11B 5/265

FI (4)：

G11B 5/31 C ,  G11B 5/31 D ,  G11B 5/31 K ,  G11B 5/265 F