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J-GLOBAL ID：200903008633110340

感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor：
佐藤 健一郎

About 佐藤 健一郎


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (4)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005095325
Publication number (International publication number)：2006276444
Application date： Mar. 29, 2005
Publication date： Oct. 12, 2006
Summary：
【課題】 90nm以下の微細パターンの形成においても、ラインエッジラフネス、現像欠陥、SEM耐性が改良された感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)特定のラクトン構造を有する繰り返し単位から選択される少なくとも1種の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)他の特定のラクトン構造を有する繰り返し単位から選択される少なくとも1種の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、(C)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
(A)式(I)〜(III)のいずれかで表されるラクトン構造を有する繰り返し単位から選択される少なくとも1種の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (B)式(a-1)〜(a-9)ののいずれかで表されるラクトン構造を有する繰り返し単位から選択される少なくとも1種の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、 (C)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物 を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (2)：
G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (2)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
F-Term (11)：
2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA12
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (13)
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