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J-GLOBAL ID：200903008642077216

パターン欠陥検査方法および装置

Inventor： 広井 高志 ,  窪田 仁志 ,  前田 俊二 ,  牧平 坦 ,  磯部 光庸
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992039202
Publication number (International publication number)：1993232033
Application date： Feb. 26, 1992
Publication date： Sep. 07, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】立体的な微細パターンからなる被検査対象物上の欠陥を高速度で、しかも高信頼度で検査することができるようにしたパターン欠陥検査方法およびその装置を提供する。【構成】微細欠陥と正常部の誤検出とを欠陥候補として抽出する焦点深度の浅い光学顕微鏡である平面パターン検査装置2と、該平面パターン検査装置2よりの欠陥候補の座標と寸法などの欠陥情報3を伝達する伝達手段4と、該伝達手段4により伝達された欠陥情報を元に欠陥情報のみから明らかに欠陥とわかる物を除去する選択手段5と、該選択手段5で選択された欠陥情報の座標部位の立体形状または、焦点深度の深い立体的な画像信号を検出し、真の欠陥を判定する共焦点顕微鏡または集束されたエネルギービームを用いた走査型顕微鏡によって構成した3次元顕微鏡である詳細検査装置6とによって構成される。

Claim (excerpt)：

微細なパターン上の欠陥を検査する方法において、該微細なパターンについて平面的な光学顕微鏡を用いて2次元の光学画像信号を検出して基準画像信号と比較して欠陥候補を抽出し、該抽出された欠陥候補の内明らかな欠陥については欠陥と判定し、上記抽出された欠陥候補の内欠陥と判定できないものについては3次元の顕微鏡を用いて立体的な形状信号を検出して基準立体的な形状信号と比較して真の欠陥を判定することを特徴とするパターン欠陥検査方法。

IPC (4)：

G01N 21/88 ,  G01B 11/24 ,  G02F 1/1343 ,  H01L 21/66

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭62-173731
  
• 特開昭63-013342
  
• 特開昭61-245007