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J-GLOBAL ID:200903008683702621
X線断層撮影方法及びX線断層撮影装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
井島 藤治 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997266220
Publication number (International publication number):1999104121
Application date: Sep. 30, 1997
Publication date: Apr. 20, 1999
Summary:
【要約】【課題】 各スライス間でイメージデータの画素値の範囲を同一の好ましい範囲内に収めることが可能なX線断層撮影方法及びX線断層撮影装置を実現する。【解決手段】 被検体に向けてX線を照射するX線源2と、照射されたX線の被検体透過情報を検出するX線検出器3と、X線の照射及び検出を制御する制御手段15とを備え、前記制御手段は、被検体の断層撮影前に相互に異なる2つの角度位置に前記X線源の角度位置を定めて該当被検体のスカウト撮影をそれぞれ実行してそれぞれのスカウト像を生成するよう制御し、投影表示データ面積によるイメージデータの標準偏差,イメージデータの所望の標準偏差,及び前記X線源の2つの角度位置において得られたスカウト像における画素値の減弱比を参照してスキャン条件を求め、該スキャン条件に従って被検体の断層撮影を実行するよう制御する。
Claim (excerpt):
X線源から出射されたX線を測定空間に載置された被検体に照射し、透過したX線をX線検出素子列で検出するX線断層撮影方法であって、被検体の断層撮影前に相互に異なる2つの角度位置に前記X線源の角度位置を定めて該当被検体のスカウト撮影をそれぞれ実行してそれぞれのスカウト像を生成し、投影表示データ面積によるイメージデータの標準偏差,イメージデータの所望の標準偏差,及び前記X線源の2つの角度位置において得られたスカウト像における画素値の減弱比を参照してスキャン条件を求め、該スキャン条件に従って被検体の断層撮影を実行するX線断層撮影方法。
IPC (2):
A61B 6/03 371
, A61B 6/03 330
FI (2):
A61B 6/03 371
, A61B 6/03 330 A
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