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J-GLOBAL ID：200903008722016129

立体像の造形方法及びその装置

Inventor：
千木 慶隆

About 千木 慶隆


Applicant, Patent owner：
株式会社エムエステック

About 株式会社エムエステック


Agent (1)： 三木 正之 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996265376
Publication number (International publication number)：1997141749
Application date： Sep. 13, 1996
Publication date： Jun. 03, 1997
Summary：
【要約】【課題】 短い時間で高精度の立体像を造形し、しかも紫外線硬化樹脂への適用を可能とする。【解決手段】 造形すべき立体像を所定方向に所定スライス間隔でスライスした複数の立体像スライスデータを作成する。立体像スライスデータをディジタルマイクロミラーデバイスに入力し、その複数の各微小ミラーを立体像スライスデータに応じて傾動させ、該各微小ミラーからの反射光を槽内の光硬化性樹脂液に投影して立体像スライスデータに対応した形状でかつ所定スライス間隔の厚みを有する硬化膜を形成し、該硬化膜を所定スライス間隔だけ沈降させる。上述の一連の操作を繰り返して硬化膜を積層して立体像を造形する。
Claim (excerpt)：
造形すべき立体像を所定方向に所定スライス間隔でスライスした複数の立体像スライスデータを作成し、立体像スライスデータをディジタルマイクロミラーデバイスに入力し、その複数の各微小ミラーを立体像スライスデータに応じて傾動させ、該ディジタルマイクロミラーデバイスの各微小ミラーからの反射光を槽内の光硬化性樹脂液に投影して上記立体像スライスデータに対応した形状でかつ上記所定スライス間隔の厚みを有する硬化膜を形成し、該硬化膜を上記所定スライス間隔だけ沈降させ、上述の一連の操作を繰り返して硬化膜を積層して上記立体像を造形するようにしたことを特徴とする立体像の造形方法。
IPC (3)：
B29C 67/00 ,  B29C 35/08 ,  B29K105:24
FI (2)：
B29C 67/00 ,  B29C 35/08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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