回折格子プロツター

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991231955
Publication number (International publication number)：1993072405
Application date： Sep. 11, 1991
Publication date： Mar. 26, 1993
Summary：

【要約】【目的】本発明は、外部からの振動に強く、任意の空間周波数を持った任意の方向の回折格子を任意の位置に連続して均一に作製でき、光の利用効率が極めて高く、また回折格子の大きさを可変できることを最も主要な特徴としている。【構成】乾板を移動,回転させるX-Y-θステージと、レーザー光源と、レーザービームを開閉によって露光,非露光するシャッターと、そのレーザービームを2本に分岐する光分岐手段と、一方のレーザービームを、参照ビームとして乾板上に入射させる第1の光学系と、他方のレーザービームを回動中心位置に受けて反射し、その反射光を物体ビームとして乾板上に参照ビームと同一位置、またはずらした位置に入射させる、回動自在でかつ所定方向に平行移動自在な回動・移動ミラーからなる第2の光学系と、画像データを基にX-Y-θステージ、シャッター、回動・移動ミラーを制御する制御手段を備えたことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

レーザー光を用い、その2光束干渉によって回折格子を作製する装置において、回折格子を形成するための感光材料を塗布した乾板が載置され、当該乾板を移動,回転させるX-Y-θステージと、レーザービームを発生するレーザー光源と、前記レーザー光源からのレーザービームを受け、その開閉によって露光,非露光を行なうシャッターと、前記シャッターからのレーザービームを2本のレーザービームに分岐する光分岐手段と、前記光分岐手段からの一方のレーザービームを、参照ビームとして前記乾板上に入射させる第1の光学系と、前記光分岐手段からの他方のレーザービームをその回動中心位置に受けて反射し、かつその反射光を物体ビームとして前記乾板上に前記参照ビームと常に同一位置に入射させる、前記回動中心位置を支点として回動自在でかつ所定方向に平行移動自在な回動・移動ミラーからなる第2の光学系と、読み取られた画像データに基づいて、前記X-Y-θステージの移動,回転、前記シャッターの開閉、および前記回動・移動ミラーの回動角度および移動位置をそれぞれ制御する制御手段と、を備えて成ることを特徴とする回折格子プロッター。

IPC (2)：

G02B 5/18 , G03F 7/20 505

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平3-206401
特開平3-064702
特開平3-153289

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