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J-GLOBAL ID：200903008772883095

蛍光断層像測定装置

Inventor： 市村 勉 ,  稲場文男
Applicant, Patent owner： 新技術事業団
Agent (1)： 蛭川 昌信
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992028276
Publication number (International publication number)：1993223738
Application date： Feb. 14, 1992
Publication date： Aug. 31, 1993
Summary：

【要約】【目的】 蛍光断層像を高精度に観測することができる装置を提供する。【構成】 試料に対して照射する励起レーザ光と直交し、試料を挟んで対向する位置に、試料からの蛍光を検出する一対の検出器を配置して蛍光断層像を測定し、さらに、試料を透過した励起レーザ光を検出して励起レーザ光の減衰を求めるとともに、試料からの蛍光と同じ波長のレーザ光を検出器の一方と試料間に配置したハーフミラーまたはセクタを介して一対の検出器で検出し、この検出出力を乗算器で乗算することにより、蛍光の減衰を求め、求めた励起光の減衰と蛍光の減衰とから測定した蛍光断層像を補正する。

Claim (excerpt)：

試料に対して励起レーザ光を照射する励起用レーザと、試料に対して励起用レーザと直交する位置に配置され、励起された蛍光源からの蛍光のうち、少なくともフラウンフォーファ回折像の0次光を取り込む高指向性受光系を介して蛍光を検出する検出器とを備え、励起用レーザを走査して励起レーザ光に対して直交方向に放射される蛍光を検出することにより蛍光断層像を測定することを特徴とする蛍光断層像測定装置。

IPC (3)：

G01N 21/64 ,  A61B 10/00 ,  G01J 3/443

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-078677
  
• 特開昭62-180241
  
• 特開平3-111808