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J-GLOBAL ID:200903008780729917
ダイヤモンド状炭素薄膜の製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
石田 敬 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995084472
Publication number (International publication number):1996259388
Application date: Mar. 17, 1995
Publication date: Oct. 08, 1996
Summary:
【要約】【目的】 炭素粒子の混入のない、ダイヤモンド状炭素薄膜の製造方法を提供する。【構成】 常温で気体もしくは液体である炭素化合物を冷却固化させたターゲットにレーザー光を照射し、この照射により炭素化合物を分解して炭素をイオン化し、次いでこの炭素イオンを基板上に定着・結晶化することからなるダイヤモンド状炭素薄膜の製造方法。
Claim (excerpt):
常温で気体もしくは液体である炭素化合物を冷却固化させたターゲットにレーザー光を照射し、この照射により炭素化合物を分解して炭素をイオン化し、次いでこの炭素イオンを基板上に定着・結晶化することからなるダイヤモンド状炭素薄膜の製造方法。
IPC (2):
FI (2):
C30B 29/04 A
, C30B 23/08 Z
Patent cited by the Patent:
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