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J-GLOBAL ID：200903008802312845

電子線照射装置および走査型電子顕微鏡装置

Inventor： 上野 理恵 ,  大塚 満
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (2)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002187840
Publication number (International publication number)：2004031207
Application date： Jun. 27, 2002
Publication date： Jan. 29, 2004
Summary：

【課題】従来の電子顕微鏡装置の資料室が小さいことの不便さを改善して、大判試料を裁断することなく、大きいままで観察する電子顕微鏡装置を提供する。【解決手段】小型の電子線発生器を用いて、鏡筒と検出器を半円球上の容器上にセットし、その位置と角度を可変できるようにすることによって、試料への電子線照射角度及び検出角度を可変とする。該容器を大判の平面試料上に乗せて観察することにより、角度を変えた観察が可能である【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

一端に開口部を有するほぼ半円球状の容器と、該容器の外周部に沿って電子光学鏡筒と検出器を具備し、 前記電子光学鏡筒は電子線発生部を有しており、 観察試料を配置した基板上に前記容器の開口部を配置して前記容器内に密封空間を形成できる構造を有しており、 前記電子線発生部から照射された電子線を観察試料に照射することによって得られる信号を前記検出器で観察する走査型電子顕微鏡装置に於いて、 前記電子光学鏡筒及び/又は前記検出器は前記容器の外周部に沿って移動可能な構造であることを特徴とする走査型電子顕微鏡装置。

IPC (3)：

H01J37/28 ,  H01J37/16 ,  H01J37/18

FI (3)：

H01J37/28 B ,  H01J37/16 ,  H01J37/18

F-Term (5)：

5C033KK01 ,  5C033UU01 ,  5C033UU02 ,  5C033UU03 ,  5C033UU04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 超高真空表面観察装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-054803   Applicant：日本電子株式会社
• 特開昭57-132657
  
• 電子線照射装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-029792   Applicant：キヤノン株式会社