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J-GLOBAL ID：200903008830267880

ホールパターン形状評価装置

Inventor：
池上 貴久

About 池上 貴久

, 
飯泉 孝

About 飯泉 孝


Applicant, Patent owner：
株式会社日立製作所

About 株式会社日立製作所


Agent (1)： 作田 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001290530
Publication number (International publication number)：2002176085
Application date： Jul. 14, 1993
Publication date： Jun. 21, 2002
Summary：
【要約】【課題】本発明の目的は、試料像の表示領域中心と、ホールパターン中心を適正に一致させるのに特に好適なホールパターン形状評価装置を提供することにある。【解決手段】極座標展開中心へ、ホールパターンの中心を移動させる手段と、ホールパターン像の一点を中心として極座標展開し、ホールパターンの半径方向の座標軸と角度座標軸をそれぞれ一次元とする二次元画像を形成する手段とを備える。
Claim (excerpt)：
荷電粒子銃から放出された荷電粒子線を試料上で走査することによって、試料から放出される検出信号に基づいて、ホールパターンのエッジ間の距離を測長するホールパターン形状評価装置において、前記ホールパターンの一点を中心として極座標展開を行う手段と、前記極座標展開中心と前記ホールパターンの中心を合わせる手段と、前記検出信号に基づいて前記ホールパターンの一点を中心とした半径方向の座標と角度座標をそれぞれ一次元とする二次元画像を形成する手段を備えたことを特徴とするホールパターン形状評価装置。
IPC (4)：
H01L 21/66 ,  G01B 15/00 ,  H01J 37/28 ,  H01L 21/027
FI (4)：
H01L 21/66 J ,  G01B 15/00 B ,  H01J 37/28 B ,  H01L 21/30 502 V
F-Term (30)：
2F067AA21 ,  2F067BB01 ,  2F067BB04 ,  2F067CC17 ,  2F067HH06 ,  2F067HH13 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK04 ,  2F067NN03 ,  2F067RR12 ,  2F067RR13 ,  2F067RR35 ,  2F067RR36 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106CA39 ,  4M106DB04 ,  4M106DB05 ,  4M106DB12 ,  4M106DB14 ,  4M106DB18 ,  4M106DJ05 ,  4M106DJ12 ,  4M106DJ21 ,  4M106DJ24 ,  5C033FF10 ,  5C033JJ07 ,  5C033MM07 ,  5C033UU05 ,  5C033UU06
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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