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J-GLOBAL ID：200903008893939241

光学製品上にミクロン-スケールのパターンを転写する方法、及びこれを用いた光学製品

Inventor：
クリステル・ドゥフランコ

About クリステル・ドゥフランコ


Applicant, Patent owner：
エシロール アンテルナシオナル (コンパニー ジェネラレ ドプテイク)

About エシロール アンテルナシオナル (コンパニー ジェネラレ ドプテイク)


Agent (4)： 志賀 正武 ,  渡邊 隆 ,  村山 靖彦 ,  実広 信哉
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2008543866
Publication number (International publication number)：2009518674
Application date： Dec. 06, 2006
Publication date： May. 07, 2009
Summary：
パターン(P)は、ラテックス層(2)によって保持される転写可能な材料の1つまたはそれ以上の部分(3、4b)の形式で光学製品上に転写される。この転写可能な材料の1つまたはそれ以上の部分は、ラテックス層が製品上に形成された後であって、ラテックスが乾燥する前に、スタンプによって堆積される。ラテックスを接着剤として利用することにより、転写可能な材料の種類は多様であってよい。このような方法は特に光学レンズ上の、とりわけ眼科用レンズ上のホログラムのようなパターンを形成するのに適している。ラテックス層は、後に受けうる衝撃から生成品を保護してもよい。
Claim (excerpt)：
ミクロン-スケールのパターン(P)を光学製品(1)の表面上に転写する方法であって、 a)転写されるパターンに対応したミクロン-スケールまたはサブミクロン-スケールに画定されたマイクロ-レリーフを構成する凹部(12)及び突起部(13)を持つスタンプの表面上に、少なくとも1つの転写可能な材料の層を堆積する段階と; b)光学製品の基板表面上に液状のラテックス層を堆積する段階と; c)前記ラテックス層が乾燥する前に、転写可能な材料の層を含む前記スタンプの表面をラテックス層に接触させる段階と; d)前記スタンプに圧力を加える段階と;及び、 e)前記ラテックス層を備える前記光学製品の表面から前記スタンプを取り除く段階; を備える方法。
IPC (5)：
G02B 5/18 ,  G03H 1/20 ,  G02C 7/00 ,  G02B 5/30 ,  G02B 3/00
FI (5)：
G02B5/18 ,  G03H1/20 ,  G02C7/00 ,  G02B5/30 ,  G02B3/00 Z
F-Term (17)：
2H006BA01 ,  2H006BA03 ,  2H149AA28 ,  2H149BA03 ,  2H149BA23 ,  2H149BB28 ,  2H249AA16 ,  2H249AA25 ,  2H249AA40 ,  2H249AA60 ,  2K008AA13 ,  2K008EE01 ,  2K008EE04 ,  2K008FF11 ,  2K008FF17 ,  2K008FF27 ,  2K008GG05
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (3)
  • レプリカ回折格子
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-048172   Applicant：株式会社島津製作所
  • 眼 鏡
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-214876   Applicant：株式会社クラレ
  • 特開平2-137815

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