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J-GLOBAL ID：200903008900656366

被描画基材、その金型、光ピックアップ装置、光学素子加工方法、その方法にて加工された基材、電子ビーム描画装置、及び光学素子

Inventor： 古田 和三 ,  茜部 祐一 ,  森川 雅弘 ,  水越 智秀 ,  増田 修 ,  堀井 康司
Applicant, Patent owner： コニカ株式会社
Agent (1)： 三澤 正義
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001292053
Publication number (International publication number)：2003098351
Application date： Sep. 25, 2001
Publication date： Apr. 03, 2003
Summary：

【要約】【課題】 本発明は、光ピックアップ装置、光学素子などの生産性の低下を防止しながらも、装置の小型化に寄与できる被描画基材、その金型、光ピックアップ装置、光学素子加工方法、その方法にて加工された基材、電子ビーム描画装置、及び光学素子を提供する。【解決手段】 レーザー供給源からのレーザー光を平行光にする第1の光学素子、前記平行光を収束させる第2の光学素子、光磁気記録媒体にて反射されたレーザー光を第2の光学素子を介して平行光とし、前記平行光を前記第1の光学素子にて集光し、集光された前記レーザー光を受光させる受光素子、を含む。受光素子の出力に基づいて前記光磁気記録媒体上の記録情報を読み出す。第1の光学素子は、平行光を光路が近接したP,S両偏光からなる複数の光束に分離する偏光分離構造を有する。第2の光学素子は、該複数の光束のうち少なくともP,S両偏光の2つの光束に位相差を生じせしめる複屈折位相構造を有する。

Claim (excerpt)：

少なくとも一面に曲面部を有し、少なくとも該曲面部に対して電子ビームを走査することにより描画パターンが描画される被描画基材であって、前記曲面部に、該曲面部に入射する光を、該光の進行方向と交差する面内で少なくとも互いに垂直な方向に振動する二つの偏光成分に偏光分離する偏光分離構造を設けたことを特徴とする被描画基材。

IPC (11)：

G02B 5/30 ,  G02B 5/18 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/22 ,  G03F 7/24 ,  G03F 9/02 ,  G11B 7/135 ,  G11B 11/105 551 ,  G11B 11/105 ,  H01J 37/305

FI (11)：

G02B 5/30 ,  G02B 5/18 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/22 Z ,  G03F 7/24 Z ,  G03F 9/02 Z ,  G11B 7/135 Z ,  G11B 11/105 551 M ,  G11B 11/105 551 P ,  H01J 37/305 B

F-Term (38)：

2H049AA03 ,  2H049AA18 ,  2H049AA31 ,  2H049AA39 ,  2H049AA43 ,  2H049AA46 ,  2H049AA57 ,  2H049AA65 ,  2H049BA05 ,  2H049BA06 ,  2H049BA45 ,  2H049BB42 ,  2H049BC01 ,  2H049BC21 ,  2H097AA03 ,  2H097AA16 ,  2H097AB09 ,  2H097BA01 ,  2H097CA16 ,  2H097KA01 ,  2H097KA29 ,  2H097KA38 ,  2H097LA17 ,  5C034BB05 ,  5D075CD13 ,  5D075CD16 ,  5D119AA04 ,  5D119AA38 ,  5D119AA40 ,  5D119JA22 ,  5D119JA25 ,  5D119JA30 ,  5D789AA04 ,  5D789AA38 ,  5D789AA40 ,  5D789JA22 ,  5D789JA25 ,  5D789JA30