Pat
J-GLOBAL ID：200903008916929176
測定位置再現方法および測定位置再現装置並びにそれを使用した光学測定装置
Inventor：
,
,
,
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
青山 葆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995200950
Publication number (International publication number)：1997049794
Application date： Aug. 07, 1995
Publication date： Feb. 18, 1997
Summary：
【要約】【課題】 常に一定の測定条件となるように測定対象物の測定部位に測定光を再現性よく投射することである。【解決手段】 光学測定装置1は、ヒトの手2に投射された測定光3の反射光4のスペクトル強度を検出する分光分析部5を備える。分光分析部5は移動機構9によりX軸方向、Y軸方向、Z軸方向および該Z軸の周りに回動する。ヒトの手2の測定部位の登録時には、CCDカメラ11でヒトの手2の掌の画像を撮像し、撮像した画像のパターンから特徴を有する部位をオペレータが選択する。分光測定の際には、CCDカメラ11で再び上記ヒトの手2の掌を撮像し、その画像のパターンから登録時の部位を検出し、上記移動機構9により分光分析部5を移動させて、登録された特徴部位に測定光3を入射させる。
Claim (excerpt)：
測定対象物に測定光を投射し、該測定対象物から透過もしくは反射した光のスペクトル強度を検出し、該スペクトル強度に基づいて上記測定対象物中の特定成分濃度を計測するに際して、上記測定光を予め定めた所定の測定位置に入射させる測定位置再現方法であって、測定位置の登録時には、上記測定対象物を撮像してその画像を表示し、該画像のパターンの視覚的に認識し得る特徴を有する部位を選択して上記画像中に印を付し、印を付した該画像を登録画像として記憶しておき、測定位置の再現時には、上記測定対象物を撮像してその画像のパターンを上記登録画像のパターンと対比し、登録画像中の上記印が付された部位に対応する部位を上記測定対象物上に検出し、上記測定光を入射させる測定位置と決定することを特徴とする測定位置再現方法。
IPC (3)：
G01N 21/27
, A61B 5/00
, A61B 5/14 310
G01N 21/27 A
, A61B 5/00 N
, A61B 5/14 310
