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J-GLOBAL ID:200903008926414832

テラヘルツパルス光計測装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 四宮 通
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002246788
Publication number (International publication number):2004085358
Application date: Aug. 27, 2002
Publication date: Mar. 18, 2004
Summary:
【課題】対象物体の2次元領域の各部位の全体に渡るテラヘルツパルス光の電場強度の時系列波形の実時間計測を行う。【解決手段】アンテナ76は、テラヘルツパルス光を試料100の2次元領域に一括照射し、その透過パルス光を電気光学結晶81の2次元領域が一括受光する。チャーピングされかつパルス光L75と同期したプローブパルス光が、結晶81の2次元領域に一括照射される。検光子86は、結晶81を通過してパルス光L55により偏光状態が変化したプローブパルス光の特定偏光成分を抽出する。複数の分光器89は、特定偏光成分のみ抽出されたプローブパルス光を、結晶81の2次元領域の各部位に対応するもの毎に、それぞれ分光して各波長成分毎の強度を得る。光ファイバ束88は、特定偏光成分のみ抽出されたプローブパルス光を複数の分光器89に導く。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
テラヘルツパルス光を対象物体の2次元領域に照射するテラヘルツパルス光照射部と、 前記対象物体の前記2次元領域を透過又は反射したテラヘルツパルス光を、前記対象物体の前記2次元領域に対応する2次元領域で一括受光する電気光学結晶又は磁気光学結晶と、 チャーピングされかつ前記テラヘルツパルス光と同期したプローブパルス光を、前記電気光学結晶又は前記磁気光学結晶の前記2次元領域に一括照射するプローブパルス光照射部と、 前記電気光学結晶又は前記磁気光学結晶を通過して前記テラヘルツパルス光により偏光状態が変化した前記プローブパルス光の特定偏光成分を抽出する検光部と、 前記検光部による特定偏光成分の抽出の後の前記プローブパルス光を、前記電気光学結晶又は前記磁気光学結晶の前記2次元領域の各部位に対応するもの毎に、それぞれ分光して各波長成分毎の強度を得る分光計測部と、 前記検光部による特定偏光成分の抽出の後の前記プローブパルス光を、前記各部位に対応するもの毎に、前記分光計測部に導く光学部材と、 を備えたことを特徴とするテラヘルツパルス光計測装置。
IPC (6):
G01N21/35 ,  G01J3/36 ,  G01J3/42 ,  G01J3/447 ,  G01N21/21 ,  H01S3/00
FI (6):
G01N21/35 Z ,  G01J3/36 ,  G01J3/42 U ,  G01J3/447 ,  G01N21/21 Z ,  H01S3/00 F
F-Term (44):
2G020AA03 ,  2G020BA17 ,  2G020CA02 ,  2G020CA03 ,  2G020CC02 ,  2G020CC29 ,  2G020CC42 ,  2G020CC47 ,  2G020CC63 ,  2G020CD06 ,  2G020CD12 ,  2G020CD13 ,  2G020CD35 ,  2G020CD36 ,  2G020CD51 ,  2G059AA05 ,  2G059BB08 ,  2G059BB12 ,  2G059CC16 ,  2G059EE01 ,  2G059EE02 ,  2G059EE05 ,  2G059FF01 ,  2G059GG01 ,  2G059GG04 ,  2G059GG08 ,  2G059GG10 ,  2G059JJ01 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ18 ,  2G059JJ19 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK04 ,  2G059MM01 ,  2G059MM03 ,  2G059MM05 ,  2G059MM10 ,  2G059PP04 ,  5F072KK30 ,  5F072SS08 ,  5F072YY11
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
Article cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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