微小二次加工処理用マルチカラムFIB

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：伊東忠彦
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001559033
Publication number (International publication number)：2003523052
Application date： Feb. 07, 2001
Publication date： Jul. 29, 2003
Summary：

【要約】微小二次加工のためのマルチガンFIBシステムは、解像度を維持しつつ、低減されたコストで増加された処理能力を提供する。複数のガンは、ターゲットを収容する主真空チャンバから分離して真空化されることができるモジュール方式のガンチャンバに保持される。システムは、複数のガンチャンバを含むことができ、各複数のガンチャンバは、複数のガンを含むことができ、さらに、各ガンチャンバは、他のガンチャバや主チャンバの真空度を妨害することなく除去し交換できるように、分離して真空化されることができる。光学カラムは、各ガンに関連付けられる。複数のカラムに対する光学素子は、幾つかのカラムにわたり延在する棒材に形成されることができる。光学素子の幾つかは、ガンチャンバに配置され、他は、主真空チャンバに配置される。TTL測光の二次粒子収集は、各個々のカラムと連係して使用されることができる。

Claim (excerpt)：

撮像若しくは材料の集束イオンビーム処理のための複数のイオンガン及び複数の関連するイオン光学カラムを含む装置であって、一若しくはそれ以上の密封可能なイオンガンチャバと、上記一若しくはそれ以上のイオンガンチャンバ内にそれぞれ配置され、イオンビームをそれぞれ生成することができる、一若しくはそれ以上のイオンガンと、上記複数のイオンガンの一にそれぞれ関連付けられ、ターゲットに、対応するイオンビームを合焦すると共に方向付ける複数のイオン光学カラムと、処理若しくは撮像用のターゲットを収容する主真空チャンバと、上記対応するイオンビームを、上記ターゲットに、上記関連付けられたイオンガンから通すように選択的に開き、若しくは、上記対応するイオンガンチャンバを密封するため選択的に閉じる、上記イオンガンのそれぞれと関連付けられた真空バルブとを含む、装置。

IPC (5)：

H01J 37/317 , C23C 14/32 , H01J 27/26 , H01J 37/08 , H01J 37/244

FI (5)：

H01J 37/317 D , C23C 14/32 F , H01J 27/26 , H01J 37/08 , H01J 37/244

F-Term (14)：

4K029CA13 , 4K029DD00 , 4K029DE02 , 4K029DE03 , 4K029DE05 , 4K029EA00 , 4K029EA09 , 5C030DF04 , 5C033NN01 , 5C033NN05 , 5C033NP04 , 5C033NP05 , 5C034DD01 , 5C034DD03

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

電子ビーム露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-101233 Applicant：キヤノン株式会社
特開平1-296555
特開平4-065825

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Cited by examiner (17)

電子ビーム露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-101233 Applicant：キヤノン株式会社
特開平1-296555
特開平1-296555

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