X線投影露光装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999227003
Publication number (International publication number)：2001052986
Application date： Aug. 11, 1999
Publication date： Feb. 23, 2001
Summary：

【要約】【課題】高精度な焦点検出ができるX線投影露光装置を得る。【解決手段】焦点検出機構7a〜7dのうち、照明光学系の一部11b、11cと、第一スリット12と、前記第一投影光学系13a〜13cと、前記第二投影光学系14a〜14eと、第二スリット15を真空チャンバ内に配置し、これらをX線投影光学系1の鏡筒に固定することにより、ウエハ高さを0.1μm以下の高精度で検出することができ、最小サイズ0.1μmのレジストパターンを、所望の領域であるウエハ4上の半導体チップ1個分の領域全面に、所望の形状で得ることができた。

Claim (excerpt)：

X線源と、該X線源から発生するX線を所定のパターンを有するマスク上に照射するX線照明光学系と、前記マスクからのX線を受けて前記パターンの像をウエハー上に投影結像するX線投影光学系と、前記マスクを保持するマスクステージと、前記ウエハを保持するウエハステージと、前記X線投影光学系と前記マスクステージと前記ウエハステージを真空中に配置するための真空チャンバと、前記ウエハの位置を前記X線投影光学系の光軸方向で光学的に検出する焦点検出機構とを具備するX線投影露光装置において、前記焦点検出機構が、光源と、第一スリットと、該第一スリットを照明する照明光学系と、前記第一スリットの像をウエハ上に投影する第一投影光学系と、第二スリットと、ウエハ上に形成された前記第一スリットの投影像を前記第二スリット上に投影する第二投影光学系と、前記第二スリットを透過した光を受光する検出器を有し、これらのうち少なくとも、第一スリットと、第一投影光学系と、第二スリットと、第二投影光学系とを前記真空チャンバ内に配置したことを特徴とするX線投影露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 503

FI (2)：

H01L 21/30 531 A , G03F 7/20 503

F-Term (8)：

2H097BA01 , 2H097CA15 , 2H097GB01 , 2H097LA10 , 5F046DA14 , 5F046DB05 , 5F046GA03 , 5F046GA14

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