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J-GLOBAL ID：200903008953169173

超微粒子、並びに、その製造方法及び製造装置

Inventor：
藤本 央

About 藤本 央


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 中島 淳 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001228521
Publication number (International publication number)：2003041305
Application date： Jul. 27, 2001
Publication date： Feb. 13, 2003
Summary：
【要約】【課題】独立分散された任意の組成と組成比の超微粒子或いはそのコロイド溶液を、簡易かつ低コストな構成で安定して得ることができる超微粒子の製造方法、及びそれにより得られる超微粒子を提供すること。【解決手段】 気相法により超微粒子を製造する超微粒子の製造方法において、スパッタリングによりターゲットを気相化し、気相化によりターゲットから飛び出した飛翔粒子を油面に蒸着させ、前記飛翔粒子を蒸着させた油を回収して、独立分散した超微粒子を製造する、或いは、前記気相化により前記ターゲットから飛び出した飛翔粒子を冷却固化させ、冷却固化された前記飛翔粒子を回収して、独立分散した超微粒子を製造する超微粒子の製造方法、及びそれにより得られる超微粒子。
Claim (excerpt)：
気相法により超微粒子を製造する超微粒子の製造方法において、スパッタリングによりターゲットを気相化し、前記気相化により前記ターゲットから飛び出した飛翔粒子を油面に蒸着させ、前記飛翔粒子を蒸着させた油を回収して、独立分散した超微粒子を製造することを特徴とする超微粒子の製造方法。
IPC (3)：
B22F 9/14 ,  B01J 13/00 ,  B22F 9/00
FI (3)：
B22F 9/14 Z ,  B01J 13/00 B ,  B22F 9/00 B
F-Term (13)：
4G065AA04 ,  4G065AB01X ,  4G065AB03X ,  4G065AB28Y ,  4G065AB38Y ,  4G065BA07 ,  4G065BB06 ,  4G065CA11 ,  4G065DA09 ,  4G065FA02 ,  4K017AA01 ,  4K017CA08 ,  4K017EF05
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (12)
  • 特開昭49-052163
  • 特開昭50-064850
  • 特開昭60-039106
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