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J-GLOBAL ID：200903008973487937

CVD用ビスマス原料溶液及びこれを用いたビスマス含有薄膜の製造方法

Inventor： 古山 晃一 ,  田▲崎▼ 雄三 ,  依田 孝次
Applicant, Patent owner： 株式会社豊島製作所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003099749
Publication number (International publication number)：2004256510
Application date： Feb. 26, 2003
Publication date： Sep. 16, 2004
Summary：

【課題】溶液気化CVD法によるビスマス含有薄膜の作製において溶媒の使用量を少なくすることができ、かつ広い基板温度範囲で平坦性の良い膜が得られる、ビスマス化合物の原料溶液を提供する。【解決手段】原料溶液の溶質に用いるビスマス化合物として下記【化1】の構造式で示されるトリパラトリルビスマスを使用する。【化1】【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

溶液気化CVD法によるビスマス含有薄膜作製に用いられる原料 溶液であり、溶質として下記 【化1】の構造式で示されるトリパラトリルビスマスを用いることを特徴とするビスマス化合物溶液

IPC (3)：

C07F9/94 ,  C23C16/18 ,  H01L21/316

FI (3)：

C07F9/94 ,  C23C16/18 ,  H01L21/316 X

F-Term (11)：

4H050AB84 ,  4H050WB11 ,  4H050WB21 ,  4K030AA11 ,  4K030BA42 ,  4K030CA02 ,  4K030FA10 ,  4K030LA15 ,  5F058BC03 ,  5F058BF06 ,  5F058BF27