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J-GLOBAL ID：200903008999436869
パタン欠陥検査装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
玉蟲 久五郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991072313
Publication number (International publication number)：1994289596
Application date： Mar. 11, 1991
Publication date： Oct. 18, 1994
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】半導体集積回路等の製造に適用されるX線マスクやその他の微細パタンのパタン欠陥を電子線の走査手段を用いて高速かつ精度良く検査するパタン欠陥検査装置において、近接して併置させた被検査マスクと基準マスクを電子ビームにより同時に走査させ、各々のマスクパタン形状に反映した情報をリアルタイムに検出することにより、処理の高速化とメモリの節減を図る。【構成】電子線を発生させる電子銃と、被検査マスクと、基準マスクと、被検査マスクと基準マスク上を走査する電子ビーム走査部と、被検査マスクと基準マスクを上下に併置するマスクホルダー部と、被検査マスクあるいは基準マスクの電子信号を検出する第1の信号検出部と、被検査マスクと基準マスクを透過した電子信号を検出する第2の検出部と、第1、第2の検出部で得られた信号から被検査マスク及び基準マスクの相互のパタンエッジ情報を比較し、異なる部位を抽出する欠陥検出部より構成したことを特徴とするパタン欠陥検査装置としての構成する。
Claim (excerpt)：
電子線を発生させる電子銃と、被検査マスクと、基準マスクと、被検査マスクと基準マスク上を走査する電子ビーム走査部と、被検査マスクと基準マスクを上下に併置するマスクホルダ部と、被検査マスクあるいは基準マスクの電子信号を検出する第1の信号検出部と、被検査マスクと基準マスクを透過した電子信号を検出する第2の検出部と、第1、第2の検出部で得られた信号から被検査マスク及び基準マスクの相互のパタンエッジ情報を比較し、異なる部位を抽出する欠陥検出部より構成したことを特徴とするパタン欠陥検査装置。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/30 301 V
, H01L 21/30 341 B
