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J-GLOBAL ID：200903009004258781

露光方法及びデバイス製造方法

Inventor： 熊崎 清明
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 志賀 正武 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000046559
Publication number (International publication number)：2001237167
Application date： Feb. 23, 2000
Publication date： Aug. 31, 2001
Summary：

【要約】【課題】 基板の多重露光等をする場合、レジストの性質が変化する等の不具合が発生する前に速やかに複数回の露光を完了し得るような露光方法を提供する。【解決千段】 露光装置を構成する各種機器のうち、アライメントステージ21A、ウエハ供給アーム21c、露光ステージ11、ウエハ回収アーム21dの四つのユニットを結び、ウエハが循環可能な搬送経路を想定する。ウエハ1ロットは、この搬送経路を構成するユニット数よりも一つ少ない枚数として定義される。そしてこのウエハ1ロットは、図8(a)から図8(f)に示すように、コータ/ディベロッパ装置(不図示)に接続する搬送ロボットから順次搬送経路内に供給され、これらが搬送経路内を循環することによって、多重露光等の複数回の露光作業を完了する。

Claim (excerpt)：

三以上からなるユニットを結ぶ搬送経路を循環する基板があって、前記三以上のユニットのうちの一つにおいてマスクのパターンを前記基板上に転写する露光方法において、前記三以上のユニットのうちの所定のユニットに達した基板について所定の処理が終了していると判断される場合には、前記搬送経路外に前記基板を取り出すことを特徴とする露光方法。

IPC (5)：

H01L 21/027 ,  B65G 49/07 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/68

FI (7)：

B65G 49/07 Z ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/68 G ,  H01L 21/30 514 D ,  H01L 21/30 514 A

F-Term (47)：

5F031CA02 ,  5F031CA07 ,  5F031DA17 ,  5F031FA01 ,  5F031FA04 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031FA13 ,  5F031FA14 ,  5F031FA15 ,  5F031GA45 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031HA13 ,  5F031HA59 ,  5F031JA05 ,  5F031JA14 ,  5F031JA15 ,  5F031JA17 ,  5F031JA22 ,  5F031JA28 ,  5F031JA29 ,  5F031JA32 ,  5F031JA34 ,  5F031JA35 ,  5F031JA38 ,  5F031KA06 ,  5F031KA07 ,  5F031KA08 ,  5F031KA10 ,  5F031KA11 ,  5F031KA13 ,  5F031KA14 ,  5F031MA03 ,  5F031MA06 ,  5F031MA13 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031PA03 ,  5F046AA13 ,  5F046BA04 ,  5F046CA04 ,  5F046CD01 ,  5F046CD03 ,  5F046CD05