振幅マスク及びこれを用いた長周期回折格子フィルタの製造装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：三好秀和 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998205194
Publication number (International publication number)：1999133221
Application date： Jul. 21, 1998
Publication date： May. 21, 1999
Summary：

【要約】【課題】振幅マスクの周期を任意に調節できる長周期回折格子フィルタの製造装置を提供すること。【解決手段】光が選択的に通過できるよう一定の周期を有する通過領域、及び光が通過しない非通過領域から構成される金属基板と、金属基板の非通過領域上に形成され、通過領域の周期を変更できる圧電素子とを含んでなる。さらに、通過領域は金属基板の中央部に形成され、圧電素子は通過領域の上下部に形成されている。また圧電素子は、非通過領域上に複数個形成され、通過領域の周期を多様に変更し得る。これにより、振幅マスクの周期を任意に調節でき、金属基板上に装着される圧電素子が複数個形成された振幅マスクを採用することによって、他の周期を有するマスクを同時に利用できる。

Claim (excerpt)：

長周期回折格子フィルタの製造装置に使用する振幅マスクにおいて、前記振幅マスクは、光が選択的に通過できるよう一定の周期を有する通過領域、及び前記光が通過しない非通過領域から構成される金属基板と、前記金属基板の非通過領域上に形成され、前記通過領域の周期を変更できる圧電素子とを含んでなることを特徴とする振幅マスク。

IPC (2)：

G02B 5/18 , G02B 6/10

FI (2)：

G02B 5/18 , G02B 6/10 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

ポリマー被覆された光ファイバの回折格子形成
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-213965 Applicant：エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション
特表昭62-500052
特表平5-502951

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