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J-GLOBAL ID：200903009029369197

マイクロ波プラズマ装置

Inventor： 佐藤 仁昭 ,  金清 任光
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994222978
Publication number (International publication number)：1996088214
Application date： Sep. 19, 1994
Publication date： Apr. 02, 1996
Summary：

【要約】【目的】マイクロ波プラズマ処理装置において、エッチング速度の均一性が良く、異方性形状が得られる装置を提供する。【構成】処理ガスが、供給されると共に、所定圧力が保持されるプラズマ発生室(10)と、該プラズマ発生室(10)に、マイクロ波を導入するマイクロ波発生源(18)を有する導波管(17)と、プラズマ発生室(10)を減圧状態に保つ排気機構(16)を有したマイクロ波プラズマ処理装置。

Claim (excerpt)：

処理ガスが供給されると共に、所定圧力が保持されるプラズマ発生室と、該プラズマ発生室にマイクロ波を導入するマイクロ波発生源を有する導波管と、プラズマ発生室を減圧状態に保つ排気機構と、前記プラズマを利用して試料を処理する際に真空室内に導入する複数個の処理ガス口とを具備したことを特徴とするマイクロ波プラズマ装置。

IPC (4)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46

FI (2)：

H01L 21/302 F ,  H01L 21/302 B