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J-GLOBAL ID：200903009043821922

ガス貯蔵装置

Inventor： 上代 洋 ,  杉浦 勉 ,  井上 衞
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社
Agent (6)： 八田 幹雄 ,  野上 敦 ,  奈良 泰男 ,  齋藤 悦子 ,  宇谷 勝幸 ,  藤井 敏史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004039875
Publication number (International publication number)：2005233230
Application date： Feb. 17, 2004
Publication date： Sep. 02, 2005
Summary：

【課題】 優れた性能を有する、高分子金属錯体を含有するガス吸着材を利用したガス吸着装置を提供する。【解決手段】 [XY2L2]n(ただし、式中、Xは2価の遷移金属イオン、Yは対イオン、Lは有機配位子を示す)の単位構造を有する高分子金属錯体を含有するガス貯蔵装置であって、前記高分子金属錯体を失活させるガス成分を吸着する吸着材が、前記ガス貯蔵装置の前段に設けられてなる、ガス貯蔵装置である。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

下記式(1)の単位構造を有する高分子金属錯体を含有するガス貯蔵装置であって、前記高分子金属錯体を失活させるガス成分を吸着する吸着材が、前記ガス貯蔵装置の前段に設けられてなる、ガス貯蔵装置。

IPC (4)：

F17C11/00 ,  B01D53/02 ,  B01D53/04 ,  B01J20/26

FI (4)：

F17C11/00 A ,  B01D53/02 Z ,  B01D53/04 B ,  B01J20/26 A

F-Term (21)：

3E072EA01 ,  4D012BA01 ,  4D012CA07 ,  4D012CB17 ,  4D012CD07 ,  4D012CG01 ,  4G066AA02B ,  4G066AA05B ,  4G066AA22B ,  4G066AA31B ,  4G066AA61B ,  4G066AC11B ,  4G066BA42 ,  4G066CA25 ,  4G066CA27 ,  4G066CA29 ,  4G066CA38 ,  4G066CA43 ,  4G066CA56 ,  4G066DA04 ,  4G066GA14

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 新規有機金属錯体およびガス吸着材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-283047   Applicant：大阪瓦斯株式会社, 森和亮