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J-GLOBAL ID：200903009069746910

高周波加熱装置

Inventor： 上田 和弘
Applicant, Patent owner： 三洋電機株式会社
Agent (1)： 紋田 誠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994214355
Publication number (International publication number)：1996064359
Application date： Aug. 17, 1994
Publication date： Mar. 08, 1996
Summary：

【要約】【目的】 高周波が加熱室内で十分に拡散して放射できるように図り、均一に加熱して加熱むらを著しく改善できる高周波加熱装置を提供する。【構成】 加熱室4上下の放射口11,12に、それぞれのマグネトロン6a,6bからの高周波を導波管7a,7bで導き放射させる一方、各々の電動機15,16で駆動し高周波を反射させる回転アンテナ17,18を放射口11,12の真下、真上に設け、この回転アンテナ17,18を特定の比率の回転速度で回転するよう電動機制御部19で駆動制御し、相対位置が逐次変化する回転アンテナの動きをさせて電波の十分な撹拌を行ない、被加熱物3の均一照射を高め、加熱むらを防止する。

Claim (excerpt)：

高周波発生装置を具備した本体内に形成された加熱室と、前記加熱室の上部及び下部にそれぞれ設けられた放射口と、前記各放射口の近傍に設けられ、前記高周波発生装置により発生し、導波管により導かれて加熱室内に放射される高周波を拡散させる上下一対の回転アンテナと、前記各アンテナをそれぞれ駆動する電動機と、それぞれの前記アンテナを特定の比率で回転させるよう各電動機を速度制御する駆動制御手段とを備えたことを特徴とする高周波加熱装置。