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J-GLOBAL ID:200903009081403581

活性炭及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (9): 三枝 英二 ,  掛樋 悠路 ,  小原 健志 ,  中川 博司 ,  舘 泰光 ,  斎藤 健治 ,  藤井 淳 ,  関 仁士 ,  中野 睦子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002350054
Publication number (International publication number):2004182511
Application date: Dec. 02, 2002
Publication date: Jul. 02, 2004
Summary:
【課題】活性炭のメソ細孔分布を制御できる方法を提供する。【解決手段】Mg、Mn、Fe、Y、Pt及びGdの少なくとも1種の金属成分を0.01〜5重量%含有するピッチを活性炭前駆体として用い、当該前駆体を不融化処理又は炭素化処理し、賦活処理する方法において、上記金属成分の種類を変えることによって、得られる活性炭のメソ細孔モード直径を制御することを特徴とする活性炭の製造方法に係る。【選択図】なし
Claim (excerpt):
77.4Kにおける窒素吸着等温線よりBJH法で求めた細孔分布において細孔直径30Å以上50Å未満の範囲のメソ細孔容積が0.02〜0.40cc/gであり、かつ、全細孔容積に対する上記範囲のメソ細孔容積の割合が5〜45%である活性炭。
IPC (1):
C01B31/10
FI (1):
C01B31/10
F-Term (18):
4G146AA06 ,  4G146AA16 ,  4G146AB01 ,  4G146AC04A ,  4G146AC04B ,  4G146AC06A ,  4G146AC06B ,  4G146AC28A ,  4G146AC28B ,  4G146AD31 ,  4G146BA24 ,  4G146BA38 ,  4G146BB22 ,  4G146BC32B ,  4G146BC33B ,  4G146BC43 ,  4G146BC44 ,  4G146BD02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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