狭い粒径分布を有するシリカ、その製造方法、その使用および該シリカを含有するエラストマー混合物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：矢野敏雄 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002033013
Publication number (International publication number)：2002316815
Application date： Feb. 08, 2002
Publication date： Oct. 31, 2002
Summary：

【要約】【課題】狭い粒径分布を有するシリカ、その製造方法、その使用および該シリカを含有するエラストマー混合物を提供する。【解決手段】パルス燃焼乾燥機中でシリカ懸濁液を乾燥させることにより、d<SB>5</SB> <10μmd<SB>50</SB> <20μmd<SB>95</SB> <40μmを有する狭い粒径分布を有するシリカを製造する。

Claim (excerpt)：

以下の物性: BET表面積(DIN66131) 100〜700m<SP>2</SP>/g、 DBP吸収量(DIN53601、乾燥物質に対する) 100〜500g/100g、タップ密度(ISO787-11) 100〜250g/l、 ALPINE-ふるい残留物>63μ(ISO8130-1) <5%、粒径 d<SB>95</SB> <40μm、(体積基準分布) d<SB>50</SB> <20μm、 d<SB>5</SB> <10μmを有することを特徴とするシリカ。

IPC (6)：

C01B 33/12 , C08K 3/36 , C08L101/00 , C09C 1/28 , C09D 5/28 , C09D201/00

FI (6)：

C01B 33/12 Z , C08K 3/36 , C08L101/00 , C09C 1/28 , C09D 5/28 , C09D201/00

F-Term (33)：

4G072AA25 , 4G072AA41 , 4G072BB05 , 4G072DD03 , 4G072GG01 , 4G072GG03 , 4G072MM01 , 4G072QQ07 , 4G072QQ09 , 4G072RR07 , 4G072RR11 , 4G072TT01 , 4G072TT04 , 4G072TT06 , 4G072TT12 , 4J002AA001 , 4J002DJ016 , 4J002FD016 , 4J037AA18 , 4J037DD05 , 4J037DD07 , 4J037EE03 , 4J037EE25 , 4J037EE28 , 4J037EE35 , 4J037EE43 , 4J037FF15 , 4J038EA011 , 4J038HA446 , 4J038KA08 , 4J038KA15 , 4J038NA01 , 4J038NA11

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

シラン化ケイ酸、その製法及びそれを含有する低い降伏価を有する低粘度ポリマー系
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-106937 Applicant：デグッサアクチェンゲゼルシャフト
沈降珪酸、被覆された状態での該化合物の製造法、および該化合物の使用
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-350127 Applicant：デグッサアクチェンゲゼルシャフト
易分散性沈降ケイ酸
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-260276 Applicant：デグッサアクチェンゲゼルシャフト

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

Demystifying pulse combustion spray drying & spray dryer compatibility questions, 20010202

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