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J-GLOBAL ID：200903009085850370

薄膜塗布装置および方法、並びに液晶表示素子の製造法

Inventor： 谷岡 聡 ,  村田 鎮男 ,  河野 誠 ,  平野 雅之
Applicant, Patent owner： チッソ株式会社 ,  株式会社飯沼ゲージ製作所 ,  浜松ホトニクス株式会社
Agent (1)： 川北 武長
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997226495
Publication number (International publication number)：1999064812
Application date： Aug. 22, 1997
Publication date： Mar. 05, 1999
Summary：

【要約】【課題】 画素欠陥の少ない液晶素子を高い歩留まりで得る製造法。【解決手段】 一対の透明基板上に電極と半導体素子を設ける工程、フォトレジスト塗布、露光、エッチング、レジスト剥離、電極及び半導体素子検査、絶縁膜塗布、配向膜塗布、配向膜ラビング、スペーサー散布、シール剤塗布、セル組立、液晶封入、偏向板貼付、ドライバーICの接続等の諸工程を有する液晶素子の製造法において、配向膜をラビングする以前の少なくとも一つの工程において、該基板に軟X線を照射することを特徴とする液晶素子の製造法。

Claim (excerpt)：

装置内で基板を移動させ得る基板の移送部と、該基板上に薄膜を塗布するための塗布部と、前記基板の移送部または塗布部において基板に対して軟X線を出射する軟X線照射部とを有することを特徴とする薄膜塗布装置。

IPC (7)：

G02F 1/13 101 ,  G02F 1/13 500 ,  G02F 1/1333 505 ,  G02F 1/1337 ,  G09F 9/00 342 ,  G21K 5/10 ,  C09K 19/06

FI (7)：

G02F 1/13 101 ,  G02F 1/13 500 ,  G02F 1/1333 505 ,  G02F 1/1337 ,  G09F 9/00 342 C ,  G21K 5/10 S ,  C09K 19/06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 基板の洗浄乾燥装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-183579   Applicant：株式会社飯沼ゲージ製作所, 浜松ホトニクス株式会社
• 液晶配向処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-091783   Applicant：株式会社飯沼ゲージ製作所, 浜松ホトニクス株式会社