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J-GLOBAL ID：200903009118742829
X線露光装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992295457
Publication number (International publication number)：1994151281
Application date： Nov. 05, 1992
Publication date： May. 31, 1994
Summary：
【要約】【目的】X線露光装置の光学素子表面への炭素析出を防ぎ、該装置のスループットおよび解像力を向上させる。【構成】所望のパターンが形成されたマスク2および光学素子12からなり、該マスクにX線6を照射して前記パターンをウエハ5上に投影するX線光学系と、該X線光学系を真空空間中に保持する真空容器7とを有するX線露光装置において、光学素子およびマスクの表面の少なくとも1つの面に対し、その面への炭素の析出を防止する手段1を設けた。
Claim (excerpt)：
所望のパターンが形成されたマスクおよび光学素子からなり、該マスクにX線を照射して前記パターンをウエハ上に投影するX線光学系と、該X線光学系を真空空間中に保持する真空容器とを有するX線露光装置において、前記光学素子およびマスクの表面の少なくとも1つの面に酸素のイオンビームを照射する手段を有することを特徴とするX線露光装置。
IPC (2)：
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