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J-GLOBAL ID：200903009125956893

真空処理装置

Inventor： 牧野 昭孝 ,  田村 直行 ,  加治 哲徳
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996321336
Publication number (International publication number)：1997168732
Application date： Mar. 27, 1992
Publication date： Jun. 30, 1997
Summary：

【要約】【目的】実行排気速度の向上を図る。【構成】真空処理室内に処理ガスを導入する手段、ガス流量を調節する手段、ガスを真空処理室外に排気する手段を有し、真空処理室内に設置された試料を導入ガスを用いて処理する真空処理装置において、排気手段は、試料の中心に鉛直な方向に排気ポンプの吸込口寸法より大きく延長した真空室を有し、且つ試料被処理面とは反対側に排気口を有し、該排気口寸法を排気ポンプ吸入口寸法とほぼ等しいかそれ以上とする。

Claim (excerpt)：

真空処理室内に処理ガスを導入するガス導入手段と、導入ガス流量を調節する手段と、真空処理室内に設置された試料を導入ガスを用いて処理する手段と、処理後のガスを真空処理室外に排気するガス排気手段とを具備する真空処理装置において、前記ガス排気手段は、排気ポンプの吸込口寸法より大きい排気部を真空室の下方に有し、且つ試料処理面の下方に排気口を有し、該排気口寸法は排気ポンプ吸入口寸法とほぼ等しいかそれ以上であることを特徴とする真空処理装置。

IPC (3)：

B01J 3/02 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (3)：

B01J 3/02 M ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平2-052428
  
• 特開平2-046723
  
• 特開平4-053126
  
• 特開平1-200071