半導体レーザー装置及びそれを用いたホログラム装置。

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：一色国際特許業務法人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005209256
Publication number (International publication number)：2007027517
Application date： Jul. 19, 2005
Publication date： Feb. 01, 2007
Summary：

【課題】簡易な仕組みで波長安定化を図る。【解決手段】レーザービームを発振出力する半導体レーザー素子を有した半導体レーザー装置において、前記半導体レーザー素子の温度調整を行う温度調整部と、前記半導体レーザー素子から発振出力されるレーザービームを互いに異なる光路を形成する第1ビーム及び第2ビームへと分離するレーザービーム分離部と、前記第1及び前記第2ビームを干渉させて得られる複数の縞を有した干渉縞の縞間隔を一定とすべく、前記温度調整部における操作量を定める温度調整制御部と、を有する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

レーザービームを発振出力する半導体レーザー素子を有した半導体レーザー装置において、前記半導体レーザー素子の温度調整を行う温度調整部と、前記半導体レーザー素子から発振出力されるレーザービームを互いに異なる光路を形成する第1ビーム及び第2ビームへと分離するレーザービーム分離部と、前記第1及び前記第2ビームを干渉させて得られる複数の縞を有した干渉縞の縞間隔を一定とすべく、前記温度調整部における操作量を定める温度調整制御部と、を有することを特徴とする半導体レーザー装置。

IPC (4)：

H01S 5/068 , H01S 5/022 , H01L 31/12 , G03H 1/04

FI (4)：

H01S5/0687 , H01S5/022 , H01L31/12 H , G03H1/04

F-Term (25)：

2K008AA04 , 2K008BB04 , 2K008HH01 , 5F089BA05 , 5F089BB04 , 5F089BC07 , 5F089BC08 , 5F089BC25 , 5F089CA15 , 5F089FA06 , 5F089GA03 , 5F173SA02 , 5F173SA12 , 5F173SC10 , 5F173SE01 , 5F173SF03 , 5F173SF09 , 5F173SF17 , 5F173SF19 , 5F173SF32 , 5F173SF33 , 5F173SF46 , 5F173SF63 , 5F173SJ06 , 5F173SJ10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

半導体レーザ温度制御回路
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-220148 Applicant：日立電線株式会社

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