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J-GLOBAL ID：200903009142706035

収差測定方法および収差測定用フォトマスク

Inventor： 田中 聡
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997355747
Publication number (International publication number)：1999184070
Application date： Dec. 24, 1997
Publication date： Jul. 09, 1999
Summary：

【要約】【課題】パターン転写位置ずれを伴う収差成分に対してその影響を簡便かつ高精度に直接測定することを可能とする。【解決手段】近接する位置に基本周期パターン42と2倍周期パターン43が配置され、かつこれら周期パターン42,43の周期方向が同一方向を向いたパターンブロック41が複数設けられ、複数のパターンブロック41の周期方向がそれぞれ直交するように配置されている。投影光学系の開口数NA、露光波長λ、投影光学系の縮小率の逆数M(>1)としたとき、基本周期パターンの周期Pがλ/NA<P/M<1.5×λ/NAで与えられる。

Claim (excerpt)：

光源からの露光光をフォトマスクに照射し、該フォトマスクの縮小投影像を投影光学系を介してウェハ上に転写する投影露光装置に対し、前記投影光学系の収差を測定する収差測定方法において、前記フォトマスクに、異なる周期からなる複数の周期パターンを配置し、かつこれら複数の周期パターンの周期方向をそれぞれ同一方向を向けて配置しておき、該フォトマスクを用いてウェハ上に転写を行って得られた転写パターンの異なる周期パターン間の相対位置ずれ量を測定することにより収差を算出することを特徴とする収差測定方法。

IPC (4)：

G03F 1/08 ,  G01B 11/00 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (6)：

G03F 1/08 M ,  G01B 11/00 Z ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 528