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J-GLOBAL ID：200903009197987246

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 佐々木 知也 ,  水谷 一良 ,  漢那 慎一
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002264489
Publication number (International publication number)：2004101934
Application date： Sep. 10, 2002
Publication date： Apr. 02, 2004
Summary：

【課題】160nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には157nmの光源使用時に十分な透過性を示し、且つ高感度、高コントラストで塗布性に優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】側鎖に、酸分解性基またはアルカリ可溶性基を有し、少なくともひとつのフッ素原子を有する基を有する繰り返し単位を少なくともひとつ以上有する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

下記一般式(Z)で表される基を側鎖に有する繰り返し単位を少なくとも1つ以上有する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物。

IPC (5)：

G03F7/039 ,  C08F12/04 ,  C08F20/10 ,  C08F32/00 ,  H01L21/027

FI (5)：

G03F7/039 601 ,  C08F12/04 ,  C08F20/10 ,  C08F32/00 ,  H01L21/30 502R

F-Term (43)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07R ,  4J100AL08Q ,  4J100AR11P ,  4J100AR21P ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA04P ,  4J100BA04Q ,  4J100BA04R ,  4J100BA12P ,  4J100BA12Q ,  4J100BA12R ,  4J100BA16P ,  4J100BA16Q ,  4J100BA16R ,  4J100BA34P ,  4J100BA34Q ,  4J100BA34R ,  4J100BA50P ,  4J100BA50Q ,  4J100BA50R ,  4J100BA59P ,  4J100BA59Q ,  4J100BA59R ,  4J100BB07P ,  4J100BB07Q ,  4J100BB07R ,  4J100JA38