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J-GLOBAL ID：200903009214056936

プロセス制御方法及び装置

Inventor： 井上 春樹 ,  八尋 正和 ,  佐藤 良幸
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立エンジニアリング株式会社
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991334722
Publication number (International publication number)：1993173606
Application date： Dec. 18, 1991
Publication date： Jul. 13, 1993
Summary：

【要約】【目的】本発明はプロセスの多目的最適制御において、異なるプロセスにも汎用的に適用でき、構築の容易な制御構造をもつプロセス制御方法及び装置を提供することにある。【構成】本発明は制御効果器の全ての操作案を決定する手段2と、各操作案を実行すると仮定したときの制御目的情報の推移をニューラルネットワーク31で予測、該予測値の制御目標値に対する評価をファジィ評価手段33によって行なう予見評価手段3と、これら制御目的毎の評価値によって複数の目的を同時に満足する程度を操作案毎に演算し、最良の満足度を決定する満足度演算評価手段4,5と、該最良満足度の操作案を制御効果器に出力する出力手段7から構成される。【効果】プロセスが異なっても制御構造を同一にできるので汎用化が可能で、コストの低減と信頼性、保守性の向上ができる。とくに、ニューロの学習機能により調整時間を短縮できる。

Claim (excerpt)：

プロセスの推移を予測しながら制御目的に応じ制御効果器の操作量を制御するプロセス制御方法において、制御効果器の所定の操作案を仮定して一定時間後のプロセス値をニューラルネットワークで予測し、前記制御目的に関して予め定められるファジィ評価関数によって前記プロセス値を評価し、この評価値が所定の基準を満たすとき前記操作案を制御効果器に出力することを特徴とするプロセス制御方法。

IPC (2)：

G05B 13/04 ,  G05B 13/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平1-243102
  
• 特開平3-179502
  
• 特開平1-228001