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J-GLOBAL ID：200903009218625773

露光装置

Inventor： 小梁川 尚
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992240659
Publication number (International publication number)：1994089844
Application date： Sep. 09, 1992
Publication date： Mar. 29, 1994
Summary：

【要約】【目的】 焼成に伴う収縮性(収縮率)に起因する寸法精度の誤差を考慮して、パターンマスクの被露光体面に対する投影倍率を任意に選択・設定し得る機能付き反射投影型の露光装置の提供を目的とする。【構成】 所定のパターンマスク8面を照射する露光源9と、前記パターンマスク8を透過した光束の倍率を変換する光束倍率変換用レンズ群10と、前記光束倍率変換用レンズ群10中のいずれかの光束倍率変換用レンズ10a,10b,...で所定の光束倍率に変換された透過光束を凹面鏡11に導光する第1の光路変換用ミラー12と、前記凹面鏡11に対向して配置され、かつ凹面鏡11で反射された光を再び凹面鏡11に反射する凸面鏡13と、前記凸面鏡13で反射され、さらに凹面鏡11による再反射光を被露光体14面に導光する第2の光路変換用ミラー15とを具備して成ることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

所定のパターンマスク面を照射する光源と、前記パターンマスクを透過したパターン光束の倍率を変換する光束倍率変換用レンズ群と、前記光束倍率変換用レンズ群中のいずれかのパターン光束倍率変換用レンズで所定の光束倍率に変換された透過パターン光束を凹面鏡面に導光する第1の光路変換用ミラーと、前記凹面鏡に対向して配置され、かつ凹面鏡で反射された光を再び凹面鏡に反射する凸面鏡と、前記凸面鏡で反射され、さらに凹面鏡による再反射光を被露光体面に導光する第2の光路変換用ミラーとを具備して成ることを特徴とする露光装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G02B 17/00 ,  G03F 7/207 ,  H05K 3/00