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J-GLOBAL ID：200903009237637740

電子ビーム描画方法

Inventor： 安藤 公明 ,  高橋 弘之 ,  太田 洋也 ,  松坂 尚
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995005455
Publication number (International publication number)：1996195339
Application date： Jan. 18, 1995
Publication date： Jul. 30, 1996
Summary：

【要約】【目的】電流密度や電子ビーム強度が変動しても、エッジラフネス(エッジ部分の凹凸)の生じないスポットビーム(丸ビーム)を用いた電子ビーム描画装置を提供する。【構成】電子ビーム描画装置で、図形処理回路に、輪郭分解301を設け、輪郭図形101と内部図形102に分割し、輪郭部分はショットピッチを細かくし、内部の図形はショットピッチを粗くして描画する。【効果】エッジ部分の凹凸がなくなり、描画の速度を低下させることなく微細パターンの描画が可能になる。また、電流密度が変動した場合にも、輪郭部分を多重描画することによって、エッジラフネス(凹凸)を生じさせることなく描画できる。

Claim (excerpt)：

一定のピッチで階段状に変化する走査信号により電子ビームを走査し、試料にパターンを描画する電子ビーム描画方法において、描画パターンの輪郭部分を一定の幅で抽出する処理と、図形の輪郭部分と内部とで電子ビームを走査するピッチまたは速度を変化させる処理とを設け、前記輪郭部分を描画するときは、細かいピッチで電子ビームを走査し、内部を描画するときは、大きなピッチで電子ビームを走査して、図形を描画することを特徴とする電子ビーム描画方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521

FI (3)：

H01L 21/30 541 J ,  H01L 21/30 541 M ,  H01L 21/30 541 E