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J-GLOBAL ID：200903009268402864

ポジ型フオトレジスト組成物

Inventor： 丹 史郎 ,  河辺 保雅 ,  小久保 忠嘉
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993085857
Publication number (International publication number)：1994301204
Application date： Apr. 13, 1993
Publication date： Oct. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】 特に半導体デバイス等の製造において、高感度で解像力、現像性、耐熱性に優れたレジストパターンが得られるポジ型フオトレジスト組成物を提供する。【構成】 ポジ型フオトレジスト組成物が、アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び下記一般式(1)で表される化合物を含有することを特徴とする。【化1】ここで、R:水素原子、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素数1〜6のアルキル基、アリール基もしくはアルケニル基、R1〜R15:同一でも異なっていても良く、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、アルコキシ基、または置換もしくは未置換の環状アルキル基を表す。但し、少なくとも1つは水酸基であり、更に、少なくとも1つは置換もしくは未置換の環状アルキル基である、を表す。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び下記一般式(1)で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型フオトレジスト組成物。【化1】ここで、R:水素原子、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素数1〜6のアルキル基、アリール基もしくはアルケニル基、R1〜R15:同一でも異なっていても良く、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、アルコキシ基、または置換もしくは未置換の環状アルキル基を表す。但し、少なくとも1つは水酸基であり、更に、少なくとも1つは置換もしくは未置換の環状アルキル基である、を表す。

IPC (2)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027