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J-GLOBAL ID：200903009289093870

光断層画像化装置

Inventor：
寺村 友一

About 寺村 友一

, 
赤堀 貞登

About 赤堀 貞登

, 
黒岩 果林

About 黒岩 果林


Applicant, Patent owner：
富士フイルム株式会社

About 富士フイルム株式会社


Agent (2)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006311286
Publication number (International publication number)：2008128708
Application date： Nov. 17, 2006
Publication date： Jun. 05, 2008
Summary：
【課題】光断層画像化装置において、高速に高分解能の断層画像を取得する。【解決手段】光源ユニット10から、互いに波長が異なるとともに、同一の時間帯にそれぞれ所定の波長帯域内で波長が変化する複数の光束La、Lbが射出される。光分割手段3は光束La、Lbをそれぞれ測定光L1a、L1bと参照光L2a、L2bとに分割する。合波手段4a、4bは測定光L1a、L1bが測定対象Sに照射されたときの反射光L3a、L3bと参照光L2a、L2bとを各光束ごとにそれぞれ合波する。合分波手段5は、波長域に応じて光束の進行方向を制御し、測定光L1a、L1bを合波し、反射光L3a、L3bを分波する。干渉光検出手段40a、40bは上記合波により生ずる干渉光L4a、L4bを干渉信号ISa、ISbとして各光束ごとに検出する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
互いに波長が異なるとともに、同一の時間帯にそれぞれ所定の波長帯域内で波長が変化する複数の光束を射出する光源ユニットと、 該光源ユニットから射出された前記各光束をそれぞれ測定光と参照光とに分割する光分割手段と、 該分割手段により分割された複数の前記測定光が測定対象に照射されたときの該測定対象からの反射光と前記参照光とを前記各光束ごとにそれぞれ合波する合波手段と、 該合波手段により前記反射光と前記参照光とが合波されたときに生ずる複数の干渉光を干渉信号として前記各光束ごとに検出する複数の干渉光検出手段と、 該干渉光検出手段により検出された複数の前記干渉信号を用いて前記測定対象の断層画像を生成する断層画像処理手段と を備えたことを特徴とする光断層画像化装置。
IPC (3)：
G01N 21/17 ,  A61B 10/00 ,  A61B 1/00
FI (3)：
G01N21/17 625 ,  A61B10/00 E ,  A61B1/00 300D
F-Term (37)：
2G059AA05 ,  2G059AA06 ,  2G059BB12 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059EE11 ,  2G059FF01 ,  2G059GG01 ,  2G059GG03 ,  2G059GG09 ,  2G059HH01 ,  2G059HH06 ,  2G059JJ02 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ15 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK03 ,  2G059LL02 ,  2G059MM01 ,  2G059MM09 ,  2G059NN01 ,  4C061AA00 ,  4C061BB05 ,  4C061CC07 ,  4C061DD00 ,  4C061FF47 ,  4C061HH51 ,  4C061LL01 ,  4C061MM10 ,  4C061NN01 ,  4C061NN05 ,  4C061PP11 ,  4C061QQ01 ,  4C061SS21 ,  4C061VV01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (9)
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