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J-GLOBAL ID：200903009292752205

低レベル放射性廃液中のヨウ素の除去方法

Inventor： 渡辺慎一 ,  菊地直樹
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 本多 小平 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992104729
Publication number (International publication number)：1993297190
Application date： Apr. 23, 1992
Publication date： Nov. 12, 1993
Summary：

【要約】【目的】 低レベル放射性廃液中から放射性ヨウ素を沈殿させて除去する方法に係わり、従来よりも除染係数の限界を高めること、及びプロセス設備の合理化、試薬使用量低減を目的とするものである。【構成】 放射性ヨウ素を含む低レベル放射性廃液中に非放射性ヨウ素を添加することによってヨウ素濃度を上げ、共沈反応の効果を得て、高い除去効率(除染係数)で放射性ヨウ素の除去を行なう。【効果】 従来プロセスにくらべて1桁高い除染係数を得ることができ、プロセス中から大型の反応塔を不要化し、試薬使用量を1/15に低減することができる。

Claim (excerpt)：

放射性ヨウ素を含有する低レベル放射性廃液中に非放射性ヨウ素を添加することにより該廃液中のヨウ素濃度を上げた後に、該廃液にヨウ素の沈殿化剤を供給してヨウ素を沈殿物として除去することを特徴とする、低レベル放射性廃液中のヨウ素の除去方法。

IPC (2)：

G21F 9/10 ,  G21F 9/02 521

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-037599
  
• 特開昭49-054797
  
• 特開昭62-276499