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J-GLOBAL ID:200903009358446674

薄膜形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 中井 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996130689
Publication number (International publication number):1997227285
Application date: Apr. 26, 1996
Publication date: Sep. 02, 1997
Summary:
【要約】【課題】 ダイヤモンド状炭素膜を、大面積の被処理物上に均一にかつ高速に成膜する薄膜形成方法を提供する。【解決手段】 細長い窓部7cの内側に被処理物13が配置されるプラズマ室7 と、スロット8b,8b ′が窓部に対向し、かつ管軸方向へ沿ってE面に形成され、管軸方向が窓部の長手方向と平行となるように配置された少なくとも2つの方形導波管8,8 ′と、窓部とスロットとの間に設けられ、マイクロ波導波路20a,20a ′を有するマイクロ波導波路形成部材20と、隣り合う導波管に互いに異なる方向にマイクロ波を供給するマイクロ波電源1,1 ′とを備えたプラズマ処理装置を用いて被処理物に薄膜を形成する。この際、アルゴンとメタンガスを導入してガス圧力を0.1 〜30mTorr とすると共に、マイクロ波導波路内の管軸方向にマイクロ波を吸収しない誘電体を挿入して、プラズマ室へ放射されるマイクロ波の電界強度をスロットの長手方向に沿って均一にする。
Claim (excerpt):
側壁に細長い窓部を有し、前記窓部の内側に被処理物が配置されるプラズマ室と、スロットが前記プラズマ室の窓部に対向し、かつ管軸方向へ沿って伸びるようにE面に形成され、管軸方向が前記窓部の長手方向と平行となるように配置された少なくとも2つのプラズマ室結合用方形導波管と、前記窓部と前記スロットとの間に設けられ、マイクロ波導波路を有するマイクロ波導波路形成部材と、隣り合う前記方形導波管に互いに異なる方向にマイクロ波を供給するマイクロ波電源とを備えたプラズマ処理装置を用いて、前記スロットから前記プラズマ室へマイクロ波を放射させて前記被処理物に薄膜を形成する薄膜形成方法において、前記プラズマ室にアルゴンとメタンとの混合ガスを導入してガス圧力を0.1〜30mTorrとし、前記方形導波管の終端側の前記マイクロ波導波路内の管軸方向に沿ってマイクロ波を吸収しない誘電体を挿入して、前記プラズマ室へ放射されるマイクロ波の電界強度を前記スロットの長手方向に沿って実質的に均一となるようにする薄膜形成方法。
IPC (3):
C30B 29/04 ,  C23C 16/50 ,  G11B 5/84
FI (3):
C30B 29/04 W ,  C23C 16/50 ,  G11B 5/84 B

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