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J-GLOBAL ID：200903009440393791

半導体等の洗浄水処理装置

Inventor： 長谷 優 ,  久保 和樹
Applicant, Patent owner： 株式会社カイジョー
Agent (1)： 薬師 稔 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996353912
Publication number (International publication number)：1998174965
Application date： Dec. 19, 1996
Publication date： Jun. 30, 1998
Summary：

【要約】【課題】 清浄な空間における使用を可能とし、作業性の向上、コストの抑制及び省スペース化を図ることのできる半導体等の洗浄水処理装置を提供する。【解決手段】 オゾンの添加された純水2を気液分離槽1に導く廃水配管6に複数の屈曲部9を形成し、複数の屈曲部9にホーン13付きの超音波発生装置10をそれぞれ取り付けてその超音波の発射方向と純水2の流れる方向とを一致させ、オゾンを分解除去する。こうすれば、粉末状の触媒を省略できるから、クリーンルームの使用が可能となり、作業性などを向上させることができる。また、紫外線ユニットや水銀ランプなどを使用しないので、ランニングコストの低減、抑制や省スペース化が期待でき、これを通じて廃水設備の負担軽減が期待できる。

Claim (excerpt)：

半導体等を洗浄した廃水を排水配管を介して気液分離槽に導き、この気液分離槽の廃水を再利用するようにした半導体等の洗浄水処理装置において、上記排水配管にホーン型の超音波発生装置を取り付けてその超音波の発射方向と廃水の流れる方向とを一致させるようにしたことを特徴とする半導体等の洗浄水処理装置。

IPC (2)：

C02F 1/36 ZAB ,  H01L 21/304 341

FI (2)：

C02F 1/36 ZAB ,  H01L 21/304 341 Z