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J-GLOBAL ID:200903009454090058
粒子線がん治療装置および粒子線スキャニング照射方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
曾我 道治
, 古川 秀利
, 鈴木 憲七
, 梶並 順
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006184260
Publication number (International publication number):2008011963
Application date: Jul. 04, 2006
Publication date: Jan. 24, 2008
Summary:
【課題】粒子線ビームが照射される照射範囲に重要臓器が含まれ、スキャニングされた位置が治療計画の位置に対してずれたり、レンジシフタが治療計画のレンジシフタと異なったりしたときでも、重要臓器に照射される誤差線量が最小限に抑えられる粒子線がん治療装置および粒子線スキャニング照射方法を提供する。【解決手段】粒子線がん治療装置は、3次元スポットスキャニング法を用いて出射される粒子線3を、患部2に照射し、粒子線スキャニング手段により最大限照射可能な領域に、予め定めた重要臓器が含まれるか否かを判断する重要臓器含有判断手段と、粒子線の重要臓器到達前の照射経路上に設置したとしたら、粒子線が重要臓器に到達しないように、その材質と厚さを設定した重要臓器保護手段と、重要臓器保護手段を着脱可能に配置する配置手段と、重要臓器保護手段の着脱を制御する配置手段の制御手段と、を備える。【選択図】図1
Claim (excerpt):
粒子線スキャニング手段を有し、3次元スポットスキャニング法を用いて上記粒子線スキャニング手段から所定の照射経路で出射される粒子線を、患部に所定の線量だけ照射する粒子線がん治療装置において、
上記粒子線スキャニング手段により最大限照射可能な領域に、予め定めた重要臓器が含まれるか否かを判断する重要臓器含有判断手段と、
上記粒子線の上記重要臓器到達前の上記照射経路上に設置したとしたら、上記粒子線が上記重要臓器に到達しないように、その材質と厚さを設定した重要臓器保護手段と、
上記重要臓器と上記粒子線スキャニング手段との間に上記重要臓器保護手段を着脱可能に配置する配置手段と、
上記重要臓器含有判断手段の判断結果に応じて、上記配置手段を制御することにより、上記重要臓器保護手段の着脱を制御する、上記配置手段の制御手段と、
を備えることを特徴とする粒子線がん治療装置。
IPC (2):
FI (5):
A61N5/10 H
, A61N5/10 L
, A61N5/10 P
, A61B6/03 360J
, A61B6/03 377
F-Term (16):
4C082AA01
, 4C082AC05
, 4C082AE01
, 4C082AG02
, 4C082AG12
, 4C082AG21
, 4C082AG25
, 4C082AG42
, 4C082AG43
, 4C082AJ08
, 4C082AN02
, 4C082AP03
, 4C082AP12
, 4C082AR02
, 4C093AA25
, 4C093FF17
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
-
粒子線照射方法及び粒子線照射装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-026564
Applicant:株式会社東芝
Cited by examiner (2)
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