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J-GLOBAL ID：200903009471841105

半導体製造装置における冷凍機を用いた真空装置の電極の低温温度コントロールシステム

Inventor： 福山 敏彦 ,  辻 隆志 ,  小野 真徳 ,  鈴木 彰 ,  矢野 弘 ,  石丸 靖
Applicant, Patent owner： アプライド・マテリアルズ・ジャパン株式会社 ,  富士通株式会社
Agent (1)： 長谷川 芳樹 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991327774
Publication number (International publication number)：1993163096
Application date： Dec. 11, 1991
Publication date： Jun. 29, 1993
Summary：

【要約】【目的】 簡単な装置により、半導体製造装置における冷凍機を用いた真空装置の高周波、マイクロ波、直流或いは交流電極の低温温度コントロールシステムを得る。【構成】 半導体製造装置における冷凍機7を用いた真空装置の高周波、マイクロ波、直流及び交流電極2を冷却するために、冷凍機7の冷媒を直接電極2へ循環させ、その流量を制御する供給バルブ5と前記供給バルブとは逆作動をするバイパスバルブ6を設けると共に、これらのバルブを温度計10のPID制御により制御することによって、熱効率がよく、精度のよい温度制御ができる。

Claim (excerpt)：

冷凍機の冷媒を直接電極へ循環させ、その流量を制御する供給バルブと前記供給バルブとは逆作動をするバイパスバルブを設けると共に、これらのバルブを温度調節計のPID制御により制御することを特徴とする半導体製造装置における冷凍機を用いた真空装置の電極の低温温度コントロールシステム。

IPC (6)：

C30B 25/02 ,  C23C 14/54 ,  C30B 25/12 ,  H01L 21/302 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/16