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J-GLOBAL ID：200903009488623217
粒度分布幅の狭いハイドロキシアパタイト、及び合成方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (2)：
桑原 英明
, 木下 洋平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004080664
Publication number (International publication number)：2005263581
Application date： Mar. 19, 2004
Publication date： Sep. 29, 2005
Summary：
【課題】 平均粒子径が任意の数ナノメートルから数百ナノメートル内で調整でき、粒度分布幅が狭いハイドロキシアパタイトを高価な装置を用いることなく製造する。【解決手段】 ハイドロキシアパタイトを湿式合成するときに反応温度を制御する。温度制御は均一なハイドロキシアパタイトの合成を促進する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
合成時の反応温度範囲を任意の温度に保つことにより、粒度分布幅が狭く、任意の平均粒子径に調整できることを特徴とするハイドロキシアパタイトの合成方法。
IPC (1)：
FI (1)：
F-Term (4)：
4C089AA01
, 4C089BA16
, 4C089CA02
, 4C089CA05
Cited by applicant (2)
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水酸アパタイト超微粒子
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平3-049144
Applicant：株式会社リコー
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ハイドロキシアパタイトナノ粒子およびその製造方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2000-333638
Applicant：科学技術振興事業団, 独立行政法人物質・材料研究機構, 国立循環器病センター総長
Cited by examiner (3)
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