Pat
J-GLOBAL ID:200903009501492747
表面検査方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (3):
森 廣三郎
, 森 寿夫
, 中務 茂樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003419364
Publication number (International publication number):2004212392
Application date: Dec. 17, 2003
Publication date: Jul. 29, 2004
Summary:
【課題】局部欠陥及び反射率ムラの双方が検出できる表面検査方法を提供する。【解決手段】検査表面のカメラ画像をウェーブレット変換部2により4枚のウェーブレット変換画像へと変換し、全ウェーブレット変換画像の低周波-低周波サブバンドを除く各サブバンドを平均化して1枚のウェーブレット処理画像を生成し、このウェーブレット処理画像に基づいた閾値処理を各ウェーブレット変換画像の低周波-低周波サブバンドを除く各サブバンドに施すとともに、低周波-低周波サブバンドに対して照明ムラを補正する処理を施した4枚のウェーブレット補正画像を生成し、各ウェーブレット補正画像をウェーブレット変換部2により個別にウェーブレット逆変換処理して4枚のテクスチャ又は照明ムラ除去画像を生成して、全テクスチャ又は照明ムラ除去画像を平均化し、更に2値化して1枚の判定画像を生成してモニタ5に表示する。【選択図】図1a
Claim (excerpt):
テクスチャ表面である検査表面のカメラ画像から生成したテクスチャ又は照明ムラ除去画像により該検査表面の表面異常を検出するに際し、カメラ画像を一対の双直交ウェーブレットによりウェーブレット変換処理して4枚のウェーブレット変換画像を生成し、選択した1〜4枚のウェーブレット変換画像の低周波-低周波サブバンドを除く各サブバンドの係数値をサブバンド閾値に基づいて閾値処理を施すとともに、低周波-低周波サブバンドの係数値に平均処理又は校正処理を施した1〜4枚のウェーブレット補正画像を生成し、各ウェーブレット補正画像を個別にウェーブレット逆変換処理して1〜4枚のテクスチャ又は照明ムラ除去画像を生成し、該テクスチャ又は照明ムラ除去画像により該検査表面の表面異常を検出することを特徴とする表面検査方法。
IPC (6):
G01N21/88
, G01M11/00
, G01N21/898
, G06T1/00
, G06T5/10
, G06T7/40
FI (6):
G01N21/88 J
, G01M11/00 T
, G01N21/898 A
, G06T1/00 300
, G06T5/10
, G06T7/40 A
F-Term (35):
2G051AA40
, 2G051AA90
, 2G051AB07
, 2G051AB20
, 2G051CA04
, 2G051EA11
, 2G051EA16
, 2G051EA23
, 2G051EB01
, 2G051EC03
, 2G051EC04
, 2G051EC05
, 2G086EE10
, 5B057AA01
, 5B057BA02
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057CB08
, 5B057CB12
, 5B057CB16
, 5B057CC01
, 5B057CD14
, 5B057CE06
, 5B057DB02
, 5B057DB09
, 5B057DC22
, 5B057DC32
, 5L096AA06
, 5L096BA03
, 5L096CA02
, 5L096FA26
, 5L096FA32
, 5L096FA46
, 5L096GA51
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
-
特開昭62-231069号公報(2〜4頁、第1図及び第4〜6図)
-
欠陥検出装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-021392
Applicant:株式会社山武
-
画像情報処理装置、画像情報処理方法及び記録媒体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-089924
Applicant:株式会社アドバンテスト
Article cited by the Patent:
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