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J-GLOBAL ID：200903009537796815

研磨液組成物

Inventor： 大谷 哲也 ,  鎌田 悦雄 ,  福本 博文
Applicant, Patent owner： 旭化成工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997096821
Publication number (International publication number)：1998287865
Application date： Apr. 15, 1997
Publication date： Oct. 27, 1998
Summary：

【要約】【課題】 ウェハー等の化学的機械研磨において、研磨表面のスクラッチ等の損傷を抑制し、優れた研磨表面を効率良く形成することができる研磨液組成物及び研磨方法を提供する。【解決手段】 平均粒径8μm以下で、10μm以上の粒子の割合が40%以下である微細セルロースを含有することを特徴とする研磨液組成物、及び該組成物を研磨液として使用することを特徴とする化学的機械研磨方法。

Claim (excerpt)：

平均粒径8μm以下で、10μm以上の粒子の割合が40%以下である微細セルロースを含有することを特徴とする研磨液組成物。

IPC (3)：

C09K 3/14 550 ,  B24B 37/00 ,  H01L 21/304 321

FI (3)：

C09K 3/14 550 C ,  B24B 37/00 H ,  H01L 21/304 321 P

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特開平3-163135
  
• 微細セルロース及びその製法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-244967   Applicant：旭化成工業株式会社

Cited by examiner (3)

• 特開平3-163135
  
• 微細セルロース及びその製法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-244967   Applicant：旭化成工業株式会社
• 特開平3-163135