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J-GLOBAL ID：200903009542990891
ウエハー加熱装置及びその製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
杉村 暁秀 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991303289
Publication number (International publication number)：1993013558
Application date： Nov. 19, 1991
Publication date： Jan. 22, 1993
Summary：
【要約】【目的】 ウエハーの加熱処理時に、ウエハーの反り、歪み等によってウエハーとウエハー設置面との間に局所的に隙間が生ずるのを防止し、ウエハーの加熱処理時の歩留りを向上させることである。【構成】 セラミックス基体2の内部に抵抗発熱体3を埋設し、セラミックス基体2の一方の主面2a上に膜状電極5を形成し、この膜状電極5を覆うように、一方の主面2a側に、セラミックス誘電体層4を形成する。直流電源12によってウエハーWとセラミックス誘電体層4との間にクーロン力を発生させ、ウエハーWをウエハー吸着面6へと吸着し、抵抗発熱体3に通電してウエハー吸着面6から発熱させ、吸着されたウエハーWを加熱する。
Claim (excerpt)：
セラミックス基体;このセラミックス基体の内部に埋設された抵抗発熱体;前記セラミックス基体の一方の主面上に形成された膜状電極;及びこの膜状電極を覆うように前記一方の主面側に形成されたセラミックス誘電体層を有するウエハー加熱装置であって、前記セラミックス誘電体層のウエハー吸着面へと前記ウエハーを吸着し、かつ前記抵抗発熱体の発熱によりこのウエハーを加熱しうるように構成されたウエハー加熱装置。
IPC (4)：
H01L 21/68
, H01L 21/205
, H01L 21/302
, H01L 21/324
