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J-GLOBAL ID：200903009556567622

フォトマスク

Inventor： 渡辺 陸司
Applicant, Patent owner： 株式会社クラレ
Agent (1)： 杉本 修司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992108869
Publication number (International publication number)：1993281712
Application date： Mar. 31, 1992
Publication date： Oct. 29, 1993
Summary：

【要約】【目的】微細パターンを有するマイクロレンズや回折格子のような製品をパターン転写により作製するためのフォトマスクに、スペーサおよび拡散板を一体化することによって、転写の再現性および量産性を向上させる。【構成】フォトマスク10は、背面側Rからの光aを前面側Fへ透過させて、前面側Fに配置された感光性樹脂膜4上に所定のパターン3で露光を行なわせるものである。このフォトマスク10に、感光性樹脂膜4との間隔Lを規制するスペーサ7および光を散乱させる拡散板6が分離不能に一体化されている。これにより、照射現場においてスペーサ7および拡散板6のフォトマスク10に対する位置ずれが発生しなくなるとともに、これら3者の組立が不要になるので、再現性および量産性が向上する。

Claim (excerpt)：

背面側からの光を前面側へ透過させて、前面側に配置された被加工部材上に所定のパターンで露光を行うフォトマスクであって、上記被加工部材との間隔を規制するスペーサおよび光を散乱させる拡散板が分離不能に一体化されてなることを特徴とするフォトマスク。

IPC (2)：

G03F 1/14 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭54-141573
  
• 特開昭63-137231