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J-GLOBAL ID：200903009573619997
純水製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
柳原 成
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992243407
Publication number (International publication number)：1994091263
Application date： Sep. 11, 1992
Publication date： Apr. 05, 1994
Summary：
【要約】【目的】 半導体製造排水と工業用水を混合して、イオン交換および膜分離処理により純水を製造する際、膜分離装置のスケール化による処理水量および処理水質低下を防止する。【構成】 半導体製造排水11をアニオン交換塔3においてアニオン交換した後、工業用水15と混合し、混合原水をカチオン交換塔6およびアニオン交換塔8でイオン交換するとともに、膜分離装置10において膜分離して純水を製造する方法。
Claim (excerpt)：
半導体製造排水をアニオン交換した後、工業用水と混合し、混合原水をイオン交換および膜分離処理することを特徴とする純水製造方法。
IPC (5)：
C02F 1/44
, B01D 61/04
, B01D 61/16
, C02F 1/42
, C02F 9/00
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (2)
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特開昭62-087299
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特開昭58-055083
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