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J-GLOBAL ID：200903009582229140

分光分析システムの校正方法

Inventor： リチャード・ジェイ・ピッタロ ,  タッド・ディー・シモンズ
Applicant, Patent owner： ヒューレット・パッカード・カンパニー
Agent (1)： 遠藤 恭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993339382
Publication number (International publication number)：1994213815
Application date： Dec. 03, 1993
Publication date： Aug. 05, 1994
Summary：

【要約】【目的】特別なガスを用いずに校正をおこない、測定の精度を向上させる分光分析システムの校正方法。【構成】本発明は、気体物質の分光分析システムにおいて、周囲空気等の容易に入手できるガスを用いて校正をおこなう。校正のあいだ、空気のスペクトル写真をいくつかの気体密度レベルで生成し、これらスペクトル写真からの情報をシステムの操作パラメータとして用いる。これにより、計量した特殊な校正のためのガスを用いることなく、コストを削減し、校正に費やす余分な作業を取り除くと同時に測定の精度を向上させる校正をおこなうことができる。

Claim (excerpt)：

次の(イ)から(ハ)のステップからから成る分光分析システムの校正方法。(イ)周囲空気のスペクトル写真を生成し、(ロ)酸素と窒素のスペクトル・データが含まれる、前記システム内に記憶されているスペクトル・データを検索し、(ハ)前記周囲空気のスペクトル写真と前記検索したスペクトル・データを利用して、前記分光分析システムの動作パラメータを設定する。

IPC (4)：

G01N 21/65 ,  G01J 3/02 ,  G01J 3/44 ,  G01N 21/31